此工艺是将被蒸发的固体金属（靶材）置于真空腔室内，产生辉光放电后，在靶材表面运行，靶材在很小的几个微米大小内蒸发，电弧的运动是由磁场所控制的，蒸发出的金属离子形成的等离子体将沉积于工件表面，这些工件是在真空腔内旋转运动，电弧制备的涂层通常被用于工具和零部件的表面涂层，电弧工艺中实现蒸发材料的高度电离，沉积涂层具有优异的附着力。

磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程，入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来，最终得到紧凑的薄涂层以期望的结构与成分沉积。

PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应。